Sputtering არის სხვა ტიპის PVD საფარი, რომელიც გამოიყენება ობიექტზე გამტარი ან საიზოლაციო მასალის საფარის დასაფენად.ეს არის "მხედველობის ხაზი" პროცესი, ისევე როგორც კათოდური რკალის პროცესი (აღწერილია ქვემოთ).თხრილის დროს იონიზირებული აირი გამოიყენება სამიზნე მასალისგან (მასალა, რომელიც დაფარავს ნაწილს) ლითონის მოსაცილებლად ან ნელა ამოსაღებად.ეს აბლირებული ლითონი შემდეგ გადის ვაკუუმ კამერაში და ფარავს სასურველ მასალას სამიზნე ნაწილის ზემოთ ან ქვემოთ.
გამოქვეყნების დრო: მაისი-27-2022