-120 გრადუსიანი ქოთნის ცივი ხაფანგი შესავალი

-120 გრადუსიანი ქოთნის ცივი ხაფანგი შესავალი

ქოთნის ტიპის ცივი ხაფანგი არის პატარა ულტრა დაბალი ტემპერატურის გაყინვის მოწყობილობა, რომელიც შესაფერისია სხვადასხვა მიზნებისთვის, როგორიცაა ვაკუუმური საფარი ცივი ხაფანგი, ბიოქიმიური ნავთობის ექსპერიმენტი, დაბალი ტემპერატურის თხევადი აბაზანა, გაზის დაჭერა და წამლის გაყინვა-გაშრობა.

კრიოგენული ცივი ხაფანგის პრინციპი და გამოყენება

ცივი ხაფანგი არის ხაფანგი, რომელიც აკავებს გაზს გაციებულ ზედაპირზე კონდენსაციის გზით.ეს არის მოწყობილობა, რომელიც მოთავსებულია ვაკუუმურ კონტეინერსა და ტუმბოს შორის გაზის ან ნავთობის ორთქლის დასაჭერად.

მოწყობილობას, რომელიც იყენებს ფიზიკურ ან ქიმიურ მეთოდებს გაზისა და ორთქლის ნარევის მავნე კომპონენტების ნაწილობრივი წნევის შესამცირებლად, ეწოდება ხაფანგი (ან ხაფანგი).

მიმოხილვა

პროცესის კამერის სწრაფი ევაკუაცია, წყლის ორთქლის ეფექტურობით, არის ძირითადი მოთხოვნა თხელი ფირის საფარის მაქსიმალური ეფექტურობისთვის.

სწრაფი „გაგრილება“ ამცირებს ციკლის დროს

ეფექტური წყლის ორთქლის გადატუმბვა (გაგრილების სიმძლავრე)

სწრაფი გაყინვა

ულტრა დაბალი ტემპერატურის ცივი ხაფანგის აპარატის შესავალი:

ულტრა დაბალი ტემპერატურის ცივი ხაფანგის მანქანა იყენებს ერთ კომპრესორს და ბუნებრივ კასკადურ სამაცივრო სისტემას.მრავალკომპონენტიანი შერეული სამუშაო გარემო ახორციელებს კასკადს მაღალი დუღილის კომპონენტსა და დაბალი დუღილის კომპონენტს შორის ბუნებრივი გამოყოფისა და მრავალსაფეხურიანი კასკადის მეთოდით და აღწევს ულტრა დაბალი ტემპერატურის მიზანს.

განაცხადის პრინციპი:

მაღალ ვაკუუმურ გარემოში, სადაც გამოიყენება ნავთობის დიფუზიური ტუმბო, არის გარკვეული რაოდენობის ნარჩენი გაზი, რომელთა 80%-ზე მეტია წყლის ორთქლი, ზეთის ორთქლი და სხვა მაღალი დუღილის ორთქლი, მაგრამ ნარჩენი გაზის ამოღების უნარი დაბალია. , დრო დიდია, ხოლო დარჩენილი გაზი ასევე წარმოადგენს სამუშაო ნაწილის დაბინძურების წყაროს, რაც გავლენას ახდენს პროდუქტის გამომუშავებასა და ხარისხზე.კრიოგენული ხაფანგის ტუმბო საუკეთესო არჩევანია პრობლემის მოსაგვარებლად.

წყლის ორთქლის დამჭერი ტუმბოს მუშაობის პრინციპი: მოათავსეთ სამაცივრო ხვეული, რომელიც შეიძლება მიაღწიოს -130-ზე დაბლა°C ვაკუუმურ პალატაში ან ზეთის დიფუზიური ტუმბოს ტუმბოს პორტში და სწრაფად დაიჭერს ვაკუუმ სისტემაში ნარჩენი აირის ზედაპირზე დაბალი ტემპერატურის კონდენსაციის ეფექტის მეშვეობით.ამით მნიშვნელოვნად მცირდება მტვერსასრუტის დრო (შეიძლება შემცირდეს ტუმბოს დრო 60-90%) და მივიღოთ სუფთა ვაკუუმური გარემო (ვაკუუმის ხარისხი შეიძლება გაიზარდოს სიდიდის ნახევარი ბრძანებით, მიაღწიოს 10-8 Torr, 10-ს.ˉ5 Pa).

1. წყლის ორთქლის ხაფანგი:

მისი სამაცივრო ხვეული ხშირად დამონტაჟებულია მაღალ სარქველსა და ვაკუუმ კამერას შორის, ან ვაკუუმ კამერაში, გრაგნილის საფარის ზედა და ქვედა კამერებში და ა. საფარი და კოჭის საფარი დიდია.კოჭს უნდა ჰქონდეს გამათბობელი და გალღობის მოწყობილობა, ისე, რომ სპირალი ყოველ ჯერზე კარის გაღებამდე დაუბრუნდეს ნორმალურ ტემპერატურას, რათა თავიდან აიცილოს დაბალტემპერატურულ კოჭს ატმოსფეროდან დიდი რაოდენობით წყლის ორთქლის შეწოვა და ყინვა. გავლენას მოახდენს შემდეგ მტვერსასრუტზე.

2. კრიოგენული ცივი ხაფანგი:

განათავსეთ იგი ზეთის დიფუზიური ტუმბოს ტუმბოს პორტში, მაღალი სარქვლის ქვემოთ.მისი მთავარი ფუნქციაა თავიდან აიცილოს ზეთი ზეთის დიფუზიურ ტუმბოში დაბრუნებაში და ამავდროულად, შეუძლია დააჩქაროს ტუმბოს სიჩქარე და გაზარდოს ვაკუუმის ხარისხი.ვინაიდან სისტემა ვაკუუმურ მდგომარეობაშია, არ არის საჭირო გაყინვის მოწყობილობა.

ორივე შეიძლება დამონტაჟდეს ცალკე ან საჭიროებისამებრ ერთდროულად.

შესრულების ძირითადი მახასიათებლები:

1. წყლისა და ზეთის ორთქლის სწრაფმა ადსორბციამ შეიძლება შეამციროს ტუმბოს დრო 60-90%-ით

2. გაზარდეთ თქვენი არსებული ვაკუუმური სისტემის წარმოების სიმძლავრე 20%-დან 100%-მდე

3. აუმჯობესებს საფარის ხარისხს, აუმჯობესებს ფირის წებოვნებას და მრავალშრიანი საფარის უნარს

4. სწრაფი გაგრილება, გაგრილება -120-მდე°C 3 წუთში, -150-მდე°C

5. 2 წუთი ცხელი ჰაერის გაყინვა, სწრაფი დაბრუნება ტემპერატურაზე, 5 წუთი გასაცივებლად

6. ერთ მოწყობილობას შეუძლია დააპროექტოს დატვირთვის ორი გამოსავალი

7. იმპორტირებული კომპრესორი, ეკოლოგიურად სუფთა შერეული მაცივარი

8. ორი დატვირთვის შემავალი და გამომავალი ტემპერატურის ჩვენებით, ადგილობრივი ტემპერატურის ჩვენებით

9. როდესაც ლოდინის ტემპერატურა მიაღწევს, იქნება ინდიკატორის შუქი, რომელიც მიუთითებს, რომ მას შეუძლია გაციების დაწყება

10. კომპრესორის გამონადენი ძალიან მაღალია, წნევა ძალიან მაღალი დაცვაა

ულტრა დაბალი ტემპერატურის ცივი ხაფანგი, ვაკუუმური ცივი ხაფანგი, თხევადი აზოტის ცივი ხაფანგი, კრიოგენული ცივი ხაფანგი.

ულტრა დაბალი ტემპერატურის აღჭურვილობა, როგორიცაა კრიოგენული თხევადი აბაზანები.პროდუქტები ფართოდ გამოიყენება სამეცნიერო კვლევით ინსტიტუტებში, უნივერსიტეტებში, ავიაციაში, ბიოფარმაცევტულ წარმოებაში, ელექტრონიკაში, ლითონის გადამამუშავებელ და სხვა ინდუსტრიებში.

-135 გრადუსი ულტრა დაბალი ტემპერატურის პან ცივი ხაფანგი

ცივი ხაფანგის დამუშავება არის გამაგრილებელი მოწყობილობა, რომელიც გამოიყენება ნივთიერებების შესაგროვებლად გარკვეული დნობის წერტილის დიაპაზონში.მაცივარში ჩადეთ U-ს ფორმის მილი, როდესაც გაზი გადის U- ფორმის მილში, მაღალი დნობის წერტილის მქონე ნივთიერება ხდება თხევადი, ხოლო დაბალი დნობის წერტილის მქონე ნივთიერება მასალა გადის U- ფორმის მილში. თამაშობენ განცალკევების როლს.

-135°C პან-ტიპის ცივი ხაფანგი არის პატარა ულტრა დაბალი ტემპერატურის გაყინვის მოწყობილობა, რომელიც შესაფერისია სხვადასხვა მიზნებისათვის, როგორიცაა პარილინის ვაკუუმი დაფარული ცივი ხაფანგი, ბიოქიმიური ნავთობის ექსპერიმენტი, დაბალი ტემპერატურის ხსნარი, გაზის ამოფრქვევის შეგროვება, წამლის ყინვაში გაშრობა და ა.შ. ცივი ხაფანგის ზომა და გაგრილების მეთოდი შეიძლება ინდივიდუალურად მორგებული იყოს მომხმარებლის საჭიროებების შესაბამისად.

ვაკუუმური საშრობი ყუთიდან ან დეკომპრესიული კონცენტრაციის მოწყობილობიდან გამოთავისუფლებული წყლის ორთქლისა და მავნე გაზების დაჭერა, ვაკუუმური სისტემის ეფექტურობის გაუმჯობესება, ვაკუუმ ტუმბოს ორთქლის შეწოვის მნიშვნელოვნად შემცირება და ვაკუუმური ტუმბოს მომსახურების ვადის გახანგრძლივება.

ციფრული ხაფანგის ტემპერატურა ციფრულად არის ნაჩვენები, რაც მოსახერხებელია ვაკუუმური ტუმბოს გაშვების დროის დასადგენად და ხელს უშლის მილსადენში არსებული ტენის ტუმბოში გადატუმბვას.

ცივი ხაფანგი დამზადებულია 304 უჟანგავი ფოლადისგან, რომელიც შეიძლება გამოყენებულ იქნას წყალზე და ეთანოლზე დაფუძნებული ექსპერიმენტებისთვის.შუშის კონდენსატორით აღჭურვის შემდეგ, ის შეიძლება გამოყენებულ იქნას მჟავაზე და ორგანულ გამხსნელებზე დაფუძნებული ექსპერიმენტებისთვის.

განაცხადის ველი

ვაკუუმური საფარი, ზედაპირის დამუშავება, ოპტოელექტრონიკა, აერონავტიკა, კვარცის კრისტალი, მზის კოლექტორების მილები, სამეცნიერო კვლევითი ინსტიტუტები, ბიოფარმაცევტული პროდუქტები, ქიმიური მრეწველობა, ელექტრონიკის ინდუსტრია.